Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://dspace.wunu.edu.ua/handle/316497/33239
Назва: | Multi-Agent Parallel Implementation of Photomask Simulation in Photolithography |
Автори: | Avakaw, Syarhei M. Doudkin, Alexander A. Inyutin, Alexander V. Otwagin, Aleksey V. Rusetsky, Vladislav A. |
Ключові слова: | Aerial Image Simulation Multi-agent Integrated Circuit Photolithography Parallel Algorithm |
Дата публікації: | 2012 |
Видавництво: | ТНЕУ |
Бібліографічний опис: | Avakaw, S. M. Multi-Agent Parallel Implementation of Photomask Simulation in Photolithography [Text] / Syarhei M. Avakaw, Alexander A. Doudkin, Alexander V. Inyutin, Aleksey V. Otwagin, Vladislav A. Rusetsky // Computing = Комп’ютинг. - 2012. - Vol. 11, is. 1. - P. 45-54. |
Короткий огляд (реферат): | A framework for paralleling aerial image simulation in photolithography is proposed. Initial data for the simulation representing photomask are considered as a data stream that is processed by a multi-agent computing system. A parallel image processing is based on a graph model of a parallel algorithm. The algorithm is constructed from individual computing operations in a special visual editor. Then the visual representation is converted into XML, which is interpreted by the multi-agent system based on MPI. The system performs run-time dynamic optimization of calculations using an algorithm of virtual associative network. The proposed framework gives a possibility to design and analyze parallel algorithms and to adapt them to architecture of the computing cluster. |
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://dspace.tneu.edu.ua/handle/316497/33239 |
Розташовується у зібраннях: | Комп'ютинг 2012 рік. Том 11. Випуск 1 |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
Avakaw.pdf | 719.88 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.